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是一款專為實驗室設(shè)計的薄膜制備設(shè)備,廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的膠體或溶液涂覆工藝。以下為詳細(xì)介紹:
薄膜均勻涂覆
通過高速旋轉(zhuǎn)(500-8000rpm)使粘滯性較高的膠體、溶液等材料均勻分布在樣品表面,適用于半導(dǎo)體、晶體、制版等精密涂覆場景
真空吸附固定
采用真空吸盤(標(biāo)配?25mm、?50mm、?100mm聚丙烯吸盤)固定樣品,操作簡便且穩(wěn)定性高,減少偏心導(dǎo)致的震動或飛片問題
雙段程序控制
支持兩段速度控制:第一段低速注膠,第二段高速勻膠,提升涂層均勻性;時間設(shè)置范圍為1-60秒
耐腐蝕與低噪音設(shè)計
鑄鋁機身結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,運行噪音低
可選聚四氟乙烯或鋁合金吸盤,適配強酸/堿性溶液環(huán)境
電源要求:AC220V 50Hz,功率148-150W,需良好接地
轉(zhuǎn)速范圍:500-8000rpm(精度±1%)
真空泵流速:≥60L/min(標(biāo)配無油真空泵,環(huán)保易維護)
環(huán)境條件
海拔≤1000m,溫度5-40℃,濕度≤85%RH
工作臺需承重50kg以上,尺寸600×600×700m
標(biāo)準(zhǔn)配置
真空吸盤(3種尺寸)、滴液器、無油真空泵、橡膠管等
可選配件
微型吸盤、過濾器、移液器(進口/國產(chǎn))、特殊材質(zhì)吸盤(如聚四氟乙烯)
尺寸與重量
主機尺寸400×300×200mm,重量20kg
科研領(lǐng)域:半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)鍍膜、電池電極涂覆等
教學(xué)實驗:材料科學(xué)、化學(xué)實驗室的薄膜生成與均勻性研究
安全性:具備開蓋保護功能,運行中開蓋即自動減速停機
維護建議:定期清潔吸盤與腔體,檢查真空泵過濾裝置
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